Sputter và đồng doanh nghiệp

JS-1600 Mini Ion Sputter được thiết kế với nguyên tắc phún xạ DC lưỡng cực (DC), hoạt động đơn giản và thuận tiện. Nó phù hợp để chuẩn bị mẫu kính hiển vi điện tử quét (SEM), sản xuất điện cực thí nghiệm cho vật liệu không dẫn.

Người dùng có thể lựa chọn các điều kiện chân không khác nhau theo nhu cầu riêng của họ, dòng điện phún xạ. Thiết kế khoang chân không kích thước lớn để đáp ứng nhu cầu phún xạ của các mẫu lớn. Được trang bị tiêu chuẩn với một mục tiêu vàng với độ tinh khiết 99,999%, cung cấp một cơ sở tốt để có được một bộ phim vàng chất lượng cao.

Sản phẩm JS-1600Máy phún xạ ion nhỏCác chỉ số kỹ thuật chính như sau:

1. Mục tiêu (điện cực trên): Chất liệu: vàng, đường kính: 50mm, độ dày: 0,1mm Độ tinh khiết: 99,999%

2, buồng chân không: Đường kính: 160mm, Chiều cao: 120mm

3. Bảng mẫu (điện cực thấp hơn): Diện tích phún xạ: Đường kính: 50mm

4. Làm việc chân không：8×10^-2—2×10^-1mbar

5. Đồng hồ đo dòng ion:50 mA

6. Bộ hẹn giờ hiển thị kỹ thuật số: Thiết lập thời gian phún xạ đơn theo thói quen phún xạ.

7.Điện áp: -1600DVC

8. Bơm cơ khí: 2 lít/giây

9. Studio làm việc trung bình khí: không khí hoặc argon,

10．Van chân không mini: Được trang bị cửa hút khí đặc biệt argon và điều chỉnh vi lượng，Có thể kết nối ống φ3mm。

11. Kích thước bên ngoài:360mm × 300mm × 380mm

Ghi chú: JS-600Máy phún xạ ion nhỏMục tiêu có thể áp dụng: vàng, bạch kim, bạc và oxit kẽm